Aurustumisega kaetud tantaaliosakesed

Vedelfaasi modifitseerimisprotsessi iseloomustab osakeste dispersioon vedelas faasis ja modifikaatori adsorptsioon, aurustumiskatte tantaaliosakeste modifikatsiooniefekt on stabiilne, osakeste pinna adsorptsiooni modifikaator on ühtlane, täielik, kuid osakesed, kui neid kasutatakse kuivas olekus, kuid tuleb läbida ka kuivatamine, muutmisprotsess on keeruline ja kulukas.

Kuivmodifitseerimisprotsessi iseloomustab osakeste hajutamine kuivas olekus modifikaatori või modifikaatorilahuse pihustamisel teatud temperatuuril, nii et modifikaatori adsorptsioon osakeste pinnale viib osakeste pinna modifitseerimise lõpule. Modifitseerimismeetod on paindlik, lihtne ja odav, kuid modifitseerimisprotsessi osakeste ühtlast töötlemist on raske saavutada.

Aurufaasi modifitseerimisprotsessi iseloomustab modifikaatori dispersioon gaasifaasis, mida saab osakeste pinnale ühtlaselt adsorbeeruda, osakeste modifitseerimise efekt on stabiilne, võrreldes vedelfaasi töötlemisseadmetega, modifitseeritud pulber ei vaja kuivatada. Kuid gaasi-tahke eraldustehnoloogia piirangute tõttu modifitseerimisprotsessis on gaasifaasi töötlemise seadmetel keeruline submikroniliste osakeste pinda muuta.

Mehaanilise jõuga keemilise töötluse protsessi iseloomustab modifikaatorite lisamine pinna modifitseerimiseks osakeste purustamisel ja osakeste pinna modifitseerimine toimub samal ajal, kui pulbri osakeste suurust vähendatakse. Purustusprotsessi tõttu tekitavad osakesed suure hulga väga aktiivseid tekkivaid pindu ja purustamisprotsessi ajal tugev mehaaniline toime võib aktiveerida osakeste pinna, parandades tõhusalt modifikaatori adsorptsiooni osakeste pinnal. Protsessi saab kombineerida osakeste purustamise ja pinna modifitseerimisega, mis lihtsustab osakeste töötlemisprotsessi ning võib parandada osakeste purustamise tõhusust ja suurendada osakeste pinna modifitseerimise mõju. Modifitseerimisprotsessi tõttu aga purustatakse osakesi pidevalt, mille tulemuseks on uus pind, osakeste pinnal on raske modifikaatorit täielikult adsorbeerida.

Kõrge energiaga kiirguse modifitseerimisprotsessi iseloomustab osakeste pinna laengu otsene muutmine ja osakeste pinna olemuse muutmine suure energiaga kiirguse kaudu või suure energiaga kiirguse kasutamine orgaaniliste modifikaatorite adsorptsiooni suurendamiseks osakeste pinnal ja paremaks muutmiseks. aurustamisega kaetud tantaaliosakeste pind.

Kuum tags: aurustuskattega tantaaliosakesed, tarnijad, tootjad, tehas, kohandatud, ost, hind, noteering, kvaliteet, müük, laos