Kõrge puhtusastmega tantaalleht
2. CAS-number:7440-25-7
3. Aatommass: 180,95 [g/mol]
4. Sulamistemperatuur: 2996 kraadi
5.Keemistemperatuur:5458 kraadi
6. Tihedus 20 kraadi juures: 16,65 [g/cm3]
7. Kristalli struktuur: kehakeskne kuup
8. Lineaarse soojuspaisumise koefitsient 20 kraadi juures: 6,4 × 10-6 [m/(mK)]
9. Soojusjuhtivus 20 kraadi juures: 57,5 [W/(mK)]
10. Erisoojus 20 kraadi juures :0,14 [J/(gK)]
11. Elektrijuhtivus 20 kraadi juures: 8,0 × 106 [S/m]
12. Elektriline eritakistus 20 kraadi juures: 0,125 [(Ωmm2)/m]
Toodete kirjeldus
Kui on vaja suurt korrosioonikindlust, on tantaal mõistlik valik. Vaatamata sellele, et tantaal ei ole väärismetall, on selle keemiline vastupidavus võrreldav väärismetallide omaga. Vaatamata oma kehakesksele kuubikujulisele kristallivormile on tantaaliga üsna lihtne töötada ka toatemperatuuril tunduvalt madalamal temperatuuril. Seetõttu on see kasulik materjal mitmesugustes keemilistes protsessides. Näiteks valmistame oma "vankumatust" materjalist soojusvahetid seadmete ehitustööstusele, needitud nagid ahjutööstusele, implantaate meditsiinitehnoloogiatööstusele ja kondensaatorikomponente elektroonikatööstusele.
Tantaallehe tootmisprotsess
Kõrge puhtusastmega tantaalleht on peaaegu kõik valmistatud külmtöötlusmeetodil. Tavaliselt sepistatakse 15–3{5}} cm paksused tantaali valuplokid 8–10 m paksuseks plaadiks ja seejärel külmvaltsitakse sellisest plaadist, surveaste võib olla üle 95 protsendi. Tööstuslikus tootmises on kaks neljas valtspingis valtsitakse plaadid tavaliselt 0,63–1,2 cm paksusteks plaatideks, mille tüüpiline laius on 51–102 cm. Et vältida oksiidide tekkimist pinnale, tehakse tüüpiline valtsimine toatemperatuuril või selle lähedal. Ümberkristallimise tõttu, mis nõuab kuumvaltsimist, jõuab temperatuur 1000 kraadini ja toimub tugev oksüdatsiooniprotsess.
Praktiliselt kõik paksud tantaalplaadid kuumutatakse lõõmutamise käigus vaakumis. Kuna faasimuutust ei toimu, ei ole kuumutamise ja jahutamise kiirus oluline. Edasine valtsimine kasutades tavalist veskit, sageli nelja rulliga mitme valtsveski. Kuna tantaalmetall on väga pehme, tuleb olla ettevaatlik, et vältida kriimustusi töötlemise ja transportimise ajal.
Kõrge puhtusastmega tantaallehe sordid, kaubamärgid, spetsifikatsioonid
| Tantaallehe / plaadi tehnilised andmed | |||||
| Hinne | Tarne olek | Mõõtmed/mm | Sordid | ||
| Paksus | Laius | Pikkus | |||
| Ta | Y | 0.005-0.09 | 30-120 | >200 | foolium |
| TaNb3 | M.Y | >0.5-2.0 | 50-200 | 50-700 | leht |
| TaNb20 | M.Y | >2.0-6.0 | 50-200 | 50-300 | leht |
Erinevate paksuste ja mõõtmetega kõrge puhtusastmega tantaalleht on Yushengi metallide eripära. Katmiseks ja õhukese kilega CVD- ja PVD-protsesside jaoks, sealhulgas termiline ja elektronkiire (E-Beam) aurustamine, madalatemperatuuriline orgaaniline aurustamine, aatomkihtsadestamine (ALD) ning metallorgaaniline ja keemiline aurustamine-sadestamine (MOCVD) spetsiifiliste rakenduste jaoks, nagu kütuseelemendid ja päikeseenergia puhul on suurem osa lehtedest valmistatud valuplokkidest. Kõigi metallide paksusvahemik on 0.04" kuni 0,25". Materjalide loomiseks kasutatakse kristallisatsiooni, tahket olekut ja muid ülikõrge puhtusastmega tehnikaid, nagu sublimatsioon.
Oleme spetsialiseerunud ainulaadsete kompositsioonide loomisele äri- ja akadeemiliste uuringute jaoks ning tipptasemel patenteeritud tehnoloogiatele. Igast haruldasest muldmetallist, nagu ka enamikust teistest tipptasemel materjalidest, saab vormida vardad, vardad või plaadid nii valamise kui ka muude töötlemismeetodite, nanoosakeste ja lahuste ning metallorgaaniliste vormide abil. Lisaks valmistame tantaali plaatide, varraste ja pulbrite kujul. Soovi korral on saadaval täiendavad kujundid.
Kuum tags: kõrge puhtusastmega tantaalleht, tarnijad, tootjad, tehas, kohandatud, ost, hind, pakkumine, kvaliteet, müük, laos
Paari
TantaalplokkJärgmise
Tantaal metallist lehedJu gjithashtu mund të pëlqeni
Küsi pakkumist