Täna saatis Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. Tantalumi sihtmärgi. Tantalumi sihtmärk on suure suurusega, peente tootmistehnoloogia ning sile ja hele pinnaga. Sihtmärgil on kõrge ja väga tasane pind. Pinna puhtus on kõrge ning pinnal pole õli, tolmu ja oksiidi.
Yusheng Metal saab sihtmärkide tootmiseks vastavalt kliendi nõuetele kasutada mitmesuguseid protsesse.
Vaakumi sulamismeetod:
Protsess: sulatage tantaalmetall vaakumkeskkonnas.
Eelised: vältige oksüdatsiooni ja lisandeid, et tagada sihtmärgi kõrge puhtus.
Kuum isostaatiline pressimistehnoloogia:
Protsess: kasutage kõrge temperatuuri ja kõrgrõhku, et tihendada tantaalpulber sihtmärki.
Eelised: tooge suure tihedusega ja ühtlase sihtstruktuuri.
Elektronitala sulamismeetod:
Omadused: kasutage tantaalmetalli sulatamiseks soojusallikana elektronitala.
Eelised: sulamisprotsessi saab täpselt kontrollida, et parandada sihtmärgi ühtlust ja puhtust.
Plasma spin -kattetehnoloogia:
Omadused: hoiustamismaterjali hoiustatavale substraadile, kasutades plasmatehnoloogiat.
Eelised: võimeline tootma spetsiaalsete rakenduste jaoks konkreetsete mikrostruktuuridega sihtmärke.
